準LIGA技術是用紫外光光源來代替LIGA技術中的同步輻射X光深層光刻，然后進行后續的微電鑄和微復制工藝。它不需要像LIGA技術所需的同步輻射X光光刻和特制的X光掩模板，從而實現微機械器件的大批量生產。
| 特點 | LIGA技術 | 準LIGA技術 |
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| 光源 | 同步輻射X光 | 普通紫外光（波長為350-450 nm） | |
| 掩模板 | 以金為吸收體的X射線掩模板 | 標準鉻掩模板 | |
| 光膠 | 常用聚甲基丙烯酸甲酯 | 常用SU-8負光膠 | |
| 深寬比 | 一般≤100，最高可達500 | 一般≤10，最高可達30 | |
| 膠膜厚度 | 幾十微米到1000μm | 幾微米到幾十微米，最高可達680 μm | |
| 生產周期 | 較長 | 較短 | |
| 生產成本 | 較高 | 較低，約為LIGA技術的1/100 | |
| 側壁垂直度 | 大于89.9° | 大于88° | |
| 最小尺寸 | 亞微米 | 微米 | |
| 加工溫度 | 常溫至50℃左右 | 常溫至50℃左右 | |
| 加工材料 | 塑料、金屬、陶瓷等 | 塑料、金屬、陶瓷等 |