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光刻蝕的三個基本步驟片圖案通過曝光成像的原理，將光刻轉(zhuǎn)移到光膠層上的工藝過程。刻蝕：是將光膠層上的平面二維圖形轉(zhuǎn)移到薄膜上，然后再基片上加工，且造成一定深...2015-02-09 15:58:35
玻璃芯片的刻蝕帶紙保護(hù)。 ? ? 將刻蝕液倒入有蓋的小塑料盒內(nèi)，放入40?℃恒溫水浴振蕩器中，預(yù)熱5?min后。...2014-08-26 10:23:50
干法刻蝕和濕刻蝕的優(yōu)缺點(diǎn)對比 ? ? ? ?濕法刻蝕是通過化學(xué)刻蝕液和被刻蝕物質(zhì)之間的化學(xué)反應(yīng)將被刻蝕物質(zhì)剝離下來的刻蝕方法。大多數(shù)濕法刻蝕是不容易控制的各向同性刻蝕。特點(diǎn)：適應(yīng)...2014-07-29 09:55:39
公司簡介研發(fā)與生產(chǎn)中心，配置了三條微流控芯片生產(chǎn)線，包括數(shù)控CNC微加工儀器，軟刻蝕有機(jī)芯片加工系統(tǒng)，光刻-掩模無機(jī)芯片加工系統(tǒng)，可以加工生產(chǎn)所有材質(zhì)的芯片...2025-02-06 04:09:41
微電極制備的缺點(diǎn)。 ? 微電極制備工藝如下圖：?以ITO金屬電極的濕法刻蝕工藝為例：過程結(jié)構(gòu)如下圖所示 ? ??...2025-02-06 04:09:41
PDMS/PMMA/GLASS實(shí)驗(yàn)室區(qū)塊——提供玻璃切割，清洗，激光打孔等功能。樣品加工區(qū)塊——以濕法刻蝕為主，能夠依據(jù)需要，加工各種尺寸的玻璃芯片。芯片表征區(qū)塊——以掃描...2025-02-06 04:09:41
層流標(biāo)準(zhǔn)芯片 mm×15 mm×4mm操作溫度-15-150?℃材質(zhì)玻璃制作工藝HF刻蝕、熱壓鍵合說明：W：寬度；L：長度；D：深度；H：高度芯片通道幾何圖流動...2018-01-26 15:35:06
微流控紙芯片專利技術(shù)綜述從疏水材料的分配和處理手段上，可分為光刻、等離子體處理、印刷、繪圖、激光刻蝕；還可根據(jù)對濾紙本身的處理，分為裁切、疊加、雕刻、粘貼等技術(shù)。在紙芯片的...2019-03-29 10:01:10
微流控裝置的創(chuàng)新應(yīng)用：柔性彩色顯示屏PDMS）制作而成，該材料在可見光下具有透明和透氣的性質(zhì)。研究人員使用軟刻蝕和鍵合技術(shù)來創(chuàng)建PDMS-PDMS微通道，其像素圖案直徑為400~800...2018-09-03 14:19:19
微反應(yīng)器的發(fā)展現(xiàn)狀／8A式中U為微管道濕潤周長，P0為泊肅數(shù)。圓形的幾何系數(shù)最小，但是存在刻蝕困難的問題，所以微通道通常是矩形或梯形的。微反應(yīng)器狹窄的通道，最大的表面...2018-08-20 15:02:10

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