超厚膜，高對比度，高感光度正型光刻膠，

適用于半導體制造及GMR磁頭制造              

Ultra-thick film high contrast and high speed positive-tone standard photo resist 

for semiconductor and/or GMR head manufacturing processes.

1) 高對比度，高感光度

2) 高附著性，對電鍍工藝高耐受性               

3) 多種粘度可供選擇

1) High contrast,high sensitivity

2) High tolerance in plating,high adhesion property

3) Various viscosity products

前烘：100℃ 90秒以上 (DHP)

曝光：G線步進式曝光機/接觸式曝光系統     

清洗：去離子水  

后烘：120℃ 60秒以上

剝離：AZ剝離液及/或氧等離子體灰化

Pre-bake: 100℃>90sec.(DHP)

Exposure: g-line stepper and/or Contact Aligner

Rinse: DI-water

Post-bake: 120℃>60sec.

Stripping: AZ Remover and/or O2 plasma-ashing

Product Name

 AZ P4210

  AZ P4330

  AZ P4400

  AZ P4620

   AZ P4903         

Viscosity

 49mPa

  115mPa

  160mPa

  400mPa

   1550mPa