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行業(yè)資訊
微流控芯片基片圖形光刻的三個步驟
通過以下三個主要步驟可以將光刻掩膜上
微流控芯片
設(shè)計圖案轉(zhuǎn)移到待加工基片表面：
首先用高速（500~5000r/min）旋轉(zhuǎn)的甩膠機，將有機聚合物光膠均勻地涂覆在基片上；
其次：用光刻法將光刻掩膜上的圖案以曝光的方式轉(zhuǎn)移到光膠層上；
最后用顯影液溶解去掉未曝光的負
光刻膠
或已曝光的正光刻膠。
Sheet Exposure System
su 8負性光刻膠
標簽:
微流控芯片
基片
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更新時間：2014-08-13 09:33:16 【
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