優(yōu)點(diǎn)：選擇性高、均勻性好、對(duì)硅片損傷少，幾乎適用于所有的金屬、剝離、塑料等材料。

缺點(diǎn)：圖形保真度不強(qiáng)，刻蝕圖形的最小線寬受到限制。

干法腐蝕是指利用高能束與表面薄膜反應(yīng)，形成揮發(fā)性物質(zhì)，或直接轟擊薄膜表面使之被腐蝕的工藝。

優(yōu)點(diǎn)：能實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即縱向的刻蝕速率遠(yuǎn)大于橫向刻蝕的速率，保證了細(xì)小圖形轉(zhuǎn)移后的高保真性。

缺點(diǎn)：設(shè)備昂貴