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光刻膠及光刻工藝流程MEMS）、太陽(yáng)能光伏、微流道和生物芯片、光電子器件/光子器件、封裝⑥光刻工藝流程⑦光刻質(zhì)量要求光刻的質(zhì)量直接影響到器件的性能，成品率和可靠性。1....2017-08-23 10:25:14
光刻膠及光刻工藝流程系統(tǒng)、太陽(yáng)能光伏、微流道和生物芯片、光電子器件以及封裝。? ? ? ?光刻工藝流程：前處理——》涂膠——》軟烘烤——》對(duì)準(zhǔn)曝光——》PEB——》顯影...2016-08-23 16:51:39
SU-8光刻膠產(chǎn)品性能及光刻工藝介紹基底相比，金屬襯底上的SU-8工藝更有利于微細(xì)電鑄工藝。膠膜結(jié)構(gòu)質(zhì)量受光刻工藝，如基底前處理、勻膠、前后烘、曝光、顯影等環(huán)節(jié)影響，其中顯影操作是光刻...2014-09-30 10:16:50
微結(jié)構(gòu)制備工藝 ? PDMS芯片微結(jié)構(gòu)尺寸取決于其注塑模具，普通紫外光刻工藝加工的尺寸最細(xì)可到2um，由于PDMS芯片材質(zhì)的透氣性、透光性和生物相...2025-02-05 22:43:25
汶顥股份參展南京2019年ESEE會(huì)議專注微流控配套芯片與儀器的開發(fā)，在展會(huì)呈現(xiàn)了一系列的新款產(chǎn)品。例如，為光刻工藝制作微流控芯片設(shè)計(jì)的顯影機(jī)，解放操作人員的雙手，讓光刻顯影變得簡(jiǎn)單易行...2019-04-18 09:34:40
基于微流控液滴形成技術(shù)的聚乙烯醇微球制備bricatedmicrofluidicchip的通道寬度相同。采用軟光刻工藝制備SU-8陽(yáng)模。將適量PDMS前聚體與固化劑按10∶1的比例攪拌混合...2018-11-07 10:06:20
光刻技術(shù)首次繪出銀納米結(jié)構(gòu) 為光學(xué)計(jì)算機(jī)研發(fā)開辟新途徑以作為純光學(xué)數(shù)據(jù)處理的基礎(chǔ)材料，但要實(shí)際應(yīng)用還需要進(jìn)一步細(xì)化銀納米結(jié)構(gòu)光刻工藝。...2017-08-09 14:34:17
微流控芯片的制作與修飾膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、...2016-06-14 14:42:59
SU 8光刻膠系列比高的微結(jié)構(gòu)與微零件是微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。 ?SU-8光刻膠的光刻工藝 ? ?????? 將SU-8光刻膠組分旋涂在基材上，施涂厚度...2016-04-14 11:30:20

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