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解析投影式光刻機曝光分類? ?對于普通人來說，光刻機或許是一個陌生的名詞，但它卻是制造大規模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經過光刻技術的鍛造。? ?光刻機，又名掩模對準曝光機，光刻系統...2016-08-17 16:46:37
URE-2000A型光刻機 ?URE-2000A型光刻機 ◆ 曝光面積：150mm×150mm ◆ 分辨力：0.8-1μm（膠厚2μm的正膠） ◆ 對準精度：0.6μm ◆ 掩模樣片整...2016-04-15 09:09:37
URE-2000S/A型單、雙面光刻機(厚膠型）URE-2000S/A 型單、雙面 ? ◆ 曝光面積： 1 5 0 mm× 1 5 0 m m ◆ 分辨力： 1 μm（膠厚2 m 的正...2016-04-15 09:08:31
URE-2000B型光刻機 ?1．技術參數 ?曝光面積：110mm×110mm ?分辨力：0.8mm（膠厚2mm的正膠） ?對準精度：±1mm ?最大焦厚：...2016-04-14 11:56:23
URE-2000/25型光刻機? ? ? ?URE-2000/25型光刻機 ?? ? ? ?技術特征： ? ? ? ?1、采用多反射鏡實現均勻照明；??????? ? ? ? ?2、超精密手輪對準調節? ...2016-04-14 11:50:39
URE-2000/35型光刻機? ? ? ?URE-2000/35型光刻機 ? ? ? ? ?◆ 曝光面積： 1 0 0 m m × 1 0 0 m m （可升級1 5 0 m m × 1 5 0 m m ）...2016-04-14 11:48:05
使用光刻機曝光的三種方式接觸式曝光接觸式曝光是將掩膜與待加工基片的光膠層直接接觸進行的曝光。掩膜和基片通過機械裝置壓緊或通過真空吸住等方法實現兩者緊密接觸。...2014-08-01 09:22:31
URE-2000/25型光刻機操作說明以及特性介紹整機系統描述： ?URE-2000/25?型深度光刻機，?是在?URE-2000A?和?URE-2000B?基礎上開發?成功的...2014-06-27 13:17:45
PDMS/PMMA/GLASS實驗室能區塊——以芯片為主，完成各種檢測和分析等功能。 ? 配套產品：光刻機：需要對PDMS芯片的模板進行光刻加工。推薦型號：美國ABM雙面對...2025-02-06 04:32:14
光刻技術首次繪出銀納米結構為光學計算機研發開辟新途徑穩定，僅在電子束聚焦處分解。銀材料光刻技術的原理與其它材料光刻技術相似，光刻機的針尖將微量先導材料，一般是有機金屬化合物靠近試樣表面注射。電子束照射在...2017-08-09 14:34:17

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