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光刻膠及光刻工藝流程光刻膠（Photoresist簡稱PR）又稱光致抗蝕劑，它是一種對光敏感的有機化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液的溶解度會發生變化。①光刻膠作用：將掩...2017-08-23 10:25:14
光刻膠使用過程中的注意事項1、?保存：?光刻膠中的光敏組分是非常脆弱的，除了有溫度的要求外，對于儲存時間和外包裝材料有很嚴格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包裝，再套上黑色塑料袋，光刻膠確實是在...2016-10-26 08:55:21
光刻膠及光刻工藝流程? ? ? ?光刻膠又稱為光致抗飾劑，它是一種對光敏感的有機化合物，受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會發生變化。主要作用是將掩膜板上的圖形轉移到晶圓表面頂層的光刻...2016-08-23 16:51:39
SU 8光刻膠系列SU 8光刻膠系列 ? ? ? ? 汶昌芯片SU-8系列光刻膠是汶昌芯片與中科院化學研究所共同開發的國內第一款厚膠，完全可以替代MicroChem S...2016-04-14 11:30:20
AZ光刻膠系列AZ光刻膠系列厚度從1μm到150μm以及更厚 ?以AZ1500為例 ? ? 為廣泛應用于半導體制造領域而優化的高感光度G線...2016-04-14 11:26:47
SU-8光刻膠產品性能及光刻工藝介紹 ?SU-8光刻膠以其優異的機械性能、良好的熱穩定性和耐腐蝕性，具有自整平、對近紫外光敏感且吸收極小等優點，在MEMS?(micro?(optical)?elec...2014-09-30 10:16:50
AZ4620光刻膠超厚膜高感光度G線標準正型超厚膜，高對比度，高感光度正型光刻膠，適用于半導體制造及GMR磁頭制造 ? ? ?...2014-06-26 08:42:08
正負光刻膠的缺點對比 ?????? 一般來說線寬的用正膠,線窄的用負膠!?相對而言，正性光刻膠比負性的精度要高，負膠顯影后圖形有漲縮，負性膠限制在2~3μm.，而正性...2014-06-25 10:49:59
SU 8光刻膠工藝藝在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8膠 3)?利用熱板對SU-8光刻膠進行前烘處理,在熱板上緩慢冷卻 4)?在Karl?Suss?MA...2014-06-05 10:43:26
微結構制備 ? ●?干膜光刻加工工藝：使用干膜法進行芯片模具加工，以替代以往光刻膠旋涂工藝，在不改變加工精度和質量的前提下，大大提高了批量化生產的效率；干...2025-02-06 04:07:11

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