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光刻膠及光刻工藝流程光刻膠（Photoresist簡(jiǎn)稱PR）又稱光致抗蝕劑，它是一種對(duì)光敏感的有機(jī)化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液的溶解度會(huì)發(fā)生變化。①光刻膠作用：將掩...2017-08-23 10:25:14
光刻技術(shù)首次繪出銀納米結(jié)構(gòu) 為光學(xué)計(jì)算機(jī)研發(fā)開(kāi)辟新途徑茨材料和能源研究中心與聯(lián)邦材料測(cè)試與研究機(jī)構(gòu)合作，首次在銀材料底層上完成光刻納米結(jié)構(gòu)，為未來(lái)光計(jì)算機(jī)數(shù)據(jù)處理、新型電子器件制造開(kāi)辟了新的途徑。這項(xiàng)成...2017-08-09 14:34:17
光刻膠使用過(guò)程中的注意事項(xiàng)1、?保存：?光刻膠中的光敏組分是非常脆弱的，除了有溫度的要求外，對(duì)于儲(chǔ)存時(shí)間和外包裝材料有很嚴(yán)格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包裝，再套上黑色塑料袋，光刻膠確實(shí)是...2016-10-26 08:55:21
光刻膠及光刻工藝流程? ? ? ?光刻膠又稱為光致抗飾劑，它是一種對(duì)光敏感的有機(jī)化合物，受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。主要作用是將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面頂層的光...2016-08-23 16:51:39
解析投影式光刻機(jī)曝光分類? ?對(duì)于普通人來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)或許是一個(gè)陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過(guò)光刻技術(shù)的鍛造。? ?光刻機(jī)，又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，光刻系...2016-08-17 16:46:37
URE-2000A型光刻機(jī) ?URE-2000A型光刻機(jī) ◆ 曝光面積：150mm×150mm ◆ 分辨力：0.8-1μm（膠厚2μm的正膠） ◆ 對(duì)準(zhǔn)精度：0.6μm ◆ 掩模樣片...2016-04-15 09:09:37
URE-2000S/A型單、雙面光刻機(jī)(厚膠型）URE-2000S/A 型單、雙面 ? ◆ 曝光面積： 1 5 0 mm× 1 5 0 m m ◆ 分辨力： 1 μm（膠厚2 m 的正...2016-04-15 09:08:31
URE-2000B型光刻機(jī) ?1．技術(shù)參數(shù) ?曝光面積：110mm×110mm ?分辨力：0.8mm（膠厚2mm的正膠） ?對(duì)準(zhǔn)精度：±1mm ?最大焦厚：...2016-04-14 11:56:23
URE-2000/25型光刻機(jī)? ? ? ?URE-2000/25型光刻機(jī) ?? ? ? ?技術(shù)特征： ? ? ? ?1、采用多反射鏡實(shí)現(xiàn)均勻照明；??????? ? ? ? ?2、超精密手輪對(duì)準(zhǔn)調(diào)節(jié)?...2016-04-14 11:50:39
URE-2000/35型光刻機(jī)? ? ? ?URE-2000/35型光刻機(jī) ? ? ? ? ?◆ 曝光面積： 1 0 0 m m × 1 0 0 m m （可升級(jí)1 5 0 m m × 1 5 0 m m ...2016-04-14 11:48:05

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